Logitech耗材，研磨粉，抛光布，抛光液

产品目录

晶圆精密抛光液
Logitech 抛光液在其苏格兰自有实验室研发生产，覆盖胶体二氧化硅、氧化铝、化学机械抛光液及金刚石悬浮液等种类。拥有多切削刃、高材料去除率、低表面粗糙度等特点，适用于硅晶圆抛光和各类光学/电光元件最终抛光。粒径精准控制、悬浮稳定性优异、可按用量灵活选规格。

型号：Logitech抛光液
发布时间：2026-07-22
晶圆精密抛光布
Logitech 抛光布系列专为 CMP（化学机械抛光）工艺设计，覆盖从粗抛到最终精抛的全流程。优异的耐酸碱性能，可在腐蚀性化学环境中高速抛光。自粘背胶，即撕即贴，规格从 8 英寸到 28 英寸全覆盖。多种不同材料、密度、纹理、结构、硬度和回弹性可供选择用于应对不同的加工环境。

型号：Logitech抛光布
发布时间：2026-07-22
晶圆精密研磨粉
Logitech 研磨粉采用独特的分级工艺，颗粒尺寸和形状控制远超行业标准，确保每次抛光结果的高度可重复性。用户可根据加工材料和工艺要求选择适合的磨抛粉和磨抛粉粒径，我们提供有：氧化铝粉、氧化铈抛光粉、金刚石抛光粉、碳化硅粉、碳化硼粉等等。

型号：Logitech研磨粉
发布时间：2026-07-22

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